單晶制絨添加劑 MQT-810A系列

單晶制絨添加劑 MQT-810A系列

適用于普通單晶制絨，PERC制絨，TOPCon制絨

效率高

  • 反射率低，絨面均勻，穩(wěn)定性好，效率優(yōu)勢明顯。

反射率低

  • 反射率低且周期內(nèi)穩(wěn)定，上升幅度小。

出絨率高

  • 絨面密度高，寬高比值小，可調(diào)空間大，適配性好。

低成本

  • 化學品耗量低，成本優(yōu)勢明顯。

文檔下載

工藝流程圖

mqtliuchengtu

堿拋光添加劑 BPL-719系列

堿拋光添加劑 BPL-719系列

去污能力強

  • 背面處理干凈，具有更強的去污能力，更干凈的堿拋效果。

保護性強，絨面均勻平整

  • 適用于臭氧氧化及鏈式氧化。堿拋光之后塔基平整，塔基之間銜接良好。

降低成本

  • 降低堿拋的后清洗濃度，或者去掉后清洗步驟。

文檔下載

堿拋光添加劑.pdf

工藝流程圖
單晶刻蝕段

bplliuchengtu

單晶制絨添加劑 MQT-809A系列

單晶制絨添加劑 MQT-809A系列

適用于普通單晶制絨，PERC制絨，TOPCon制絨

效率高
  • 反射率低，絨面均勻，穩(wěn)定性好，效率優(yōu)勢明顯。

反射率低

  • 反射率低且周期內(nèi)穩(wěn)定，上升幅度小。

出絨率高

  • 絨面密度高，寬高比值小，可調(diào)空間大，適配性好。

低成本

  • 化學品耗量低，成本優(yōu)勢明顯。

文檔下載

單晶制絨添加劑.pdf

工藝流程圖
單晶制絨段